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| 大陆MOCVD需求强劲 设备业者乐透 |
| 楼主 网友 2011/12/14 16:30:08 |
| MOCVD是整个LED上游核心技术所在。MOCVD是一个化学反应，也是一个热反应，因此对于反应腔的设计最重要的是要保证供气的均匀性和加热的均匀性，除此之外还要减少预反应、不能有腔体残留未反应的现象。为了保证供气的均匀性，大部分炉子的设计会被要求除了公转之外，还要有自转，即大盘公转，里面放的小盘自转。对于加热，其实有两种加热方式：一种是所谓的RTP lamp，即快速升温的灯管加热；还有一种比较传统，好比火锅式的加热方式。两种各有利弊，前者可实现瞬间加温，一秒加温一百度、两百度都有可能；后者的优点则是非常牢靠。前者唯一的缺点就是快速升温时，灯泡容易被烧坏；后者的缺点就是升温、降温速度比较慢。除了炉的设计之外，平台的设计也值得重视。对于平台的设计，目前一个新的潮流是所谓的多腔式。 很多公司认为要提高产能、降低成本就需要把炉扩大，但是这个外延炉是不可能无限扩大的，因为它有物理上的极限，当无限扩大的时候，无法保证加热均匀、供气均匀，这是一个基本的问题。那又该如何扩大产能？我们认为首先要优化托盘，增加芯片数。其次要优化供气，避免浪费MO源，提高使用率。最后要注意温控的重要性。MOCVD是热反应，温度控制得好，工艺基本上就达到60%以上的效果了。传统的光学式温控有它的好处，也有它的缺点。好处是其基本上可以隔着腔在外面控制。不过，需要捕捉光反射回来的信号。目前衬底不再是传统的衬底，而是图形衬底，表面凹凸不平，因此纯粹靠光学式无法做到温控，必须要在光学式基础上加上热电偶。另外，需要升温上盖，增加Mo源转换效率，提高工艺稳定性及LED亮度。反应炉内温度很高，有1000度，MO源的温度顶多50度，两者温差非常大，当MO源射进来到达蓝宝石衬底表层的时候，蓝宝石表层是高温，MO却是低温，这样容易对蓝宝石表面造成某种程度的伤害，因此需要升温上盖。 国内公司要是生产MOCVD设备，应该抓住重点，不要浪费精力做一些没有办法量产的设备上。MOCVD设备基本结构由手套箱、交换腔、外延炉、加热线电源控制及MO源控制等部分构成，其中软件至关重要。例如，在交换腔部分，需要机械手控制软件。机械手需要耐高温，需要在恰当的时间和正确的腔室拿到合适的物品并放到正确的位置，这些都由控制软件负责。外延炉里托盘、加热线、温控都是核心技术，温控则需要温控软件。此外，加热线电源控制和MO源的控制也都是由软件来负责，软件才是外延炉最终的核心。软件如果不够成熟，整个工艺控制就变得十分混乱。 （本版文字由本报记者徐恒根据录音整理，未经本人审阅） |
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